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鑫亿晶科(ke)技取得立式(shi)晶片旋转腐蚀机构专利，提(ti)拔3215晶片产能与良(liang)率

国家知识产权(quan)局信息显示，深圳市鑫亿晶科(ke)技无限公司取得一项名为“立式(shi)晶片旋转腐蚀机构”的专利，授权(quan)通告号CN224021703U，请求日期为2026年1月。

专利摘要显示，本有用新型实行例公然了一种立式(shi)晶片旋转腐蚀机构，包括机电、转轴、转筒(tong)、转筒(tong)流动件，机电的输入轴连(lian)接转轴，转筒(tong)经过转筒(tong)流动件流动于转轴上，转筒(tong)上设有夹具以及快(kuai)拆块，夹具上设有多少用于放置晶片的放置槽，快(kuai)拆块用于压紧放置槽内的晶片，放置槽内的晶片与转筒(tong)旋转切线偏向(xiang)呈预设角度的夹角。本有用新型行使斜向(xiang)旋转产生的科(ke)氏(shi)力效应，使腐蚀液在(zai)晶片外(wai)观构成微湍流，既破损了停滞的边界层(ceng)，又将法向(xiang)冲击力分(fen)解为切向(xiang)分(fen)力，提(ti)拔3215晶片产能与良(liang)率。

天眼查资料显示，深圳市鑫亿晶科(ke)技无限公司，建立于2020年，位于深圳市，是一家以从事较量争论机、通信和其他(ta)电子设备制作业为主的企业。企业注册资源(yuan)1844.590399万人民币。经过天眼查大数据阐明，深圳市鑫亿晶科(ke)技无限公司共对外(wai)投资了2家企业，到场招投标项目1次，专利信息23条，此外(wai)企业还(hai)具有行政许可(ke)23个(ge)。

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泉源(yuan)：市场资讯(xun)